独走する半導体メジャー3社，1.5兆円投資を支える技術戦略を語る

日経エレクトロニクスのセミナー、独走する半導体メジャー3社，1.5兆円投資を支える技術戦略を語るの内容にとても興味があるのですが、日経エレクトロニクス購読中でも58,000円と、高すぎて手が出ません・・・。

Static Timing Analysis for Nanometer Designs: A Practical Approach

仕事でF/Fのタイミングパラメータの定義について検索しているときに、Static Timing Analysis for Nanometer Designs: A Practical Approachという本を見つけた。
今年発売になった本のようだ。

STA（Static Timing Analysis）に関わる仕事をしているが、体系的な知識を持ち合わせていないので、amazon.comから購入した。
送料込みで\14,000弱。
最近のamazon.comでは、US$ではなく日本円で表示してくれるようになっていて便利だ。

送料をケチったので、到着は8日～16日後。

リソグラフィ用語

TSMCのロードマップについての記事で出てきたリソグラフィについての用語を調べました。

Immersion Lithography

液浸露光

Numerical Aperture

開口数。NAと略される。

ML2

Mask Less Lithography。マスクなし露光のこと。

TSMCのロードマップ

EETimesに、TSMCについての記事が出ていました。
TSMC adds EUV to litho roadmap
TSMC to roll high-k/metal-gate duo at 32-nm

32nmでhigh-kとメタルゲートを導入し、22nmと15nmプロセス以降ではEUVを使用する
ロードマップだそうです。
22nm/15nmではマスクレス・リソグラフィを導入すると書かれていますが、マスクなしで
どうやってパターンを焼き付けるのか気になります。
この分野は詳しくないので、調べてみようと思います。